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国产光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗?

发布日期:2022-09-15 11:49    点击次数:158

国产古光刻机精度虽然低,把CPU尺寸做大些获得同样的性能可行吗?答案是不可行,要说起来国产自研发处理器的厂商确实不多,目前我们可能知道最多的就是华为和龙芯,确实我们在军用方面现在很多用的是65nm公司的技术,这也是目前国内光刻机上海微电子目前最成熟的工艺,不过军用方面确实没有问题,在国外也会发现军用方面CPU工艺制程也不高,原因就在于说本身军用处理器对于性能的要求不高,所以不需要说像现在商用的CPU一样需要考虑到晶体管的数量,再者就是要求稳定,工艺虽然看着很差,但是经过测试发现工艺越高,抗干扰的能力就越低,所以现在军用的确实工艺都不高,

但是我们还要考虑到一个问题,那就是商用和军用的不同,比如就拿华为来说,如果把尺寸做大,也就意味着手机尺寸要增加,而且你要考虑到功耗和发热,电脑确实现在比如intel大多数还是集中在14nm,这是因为电脑主机尺寸大,所以散热做的更好,但是手机确实不可以,而且现在你看看大多数都是集中在7nm手机现在的处理器,功耗和发热一样会很大,你如果采用之前的工艺那功耗和发热会怎样,确实不敢想象。

实际不管是电脑还是手机处理器这种方式都不可行,工艺越高晶体管数量越多,实际就是为了保证性能和功耗的均衡,但是你只顾增加尺寸,对于工艺不做要求,那么散热就要做的很好,但是我们看到的情况,现在intel的14nm处理器,我们发现即便是有散热的情况下,电脑还是会发热,这么大的主机体积和散热都压制不住,手机怎么压制。而且现在光刻机国内完全自主研发的就是上海微电子,现在还是保持在65nm,至于说的28nm目前听说是将要在年底才会上线,所以还是不确定的状态。

现在军用CPU就是如此,因为散热做的更好再加上要求不高,但是商用的电脑处理器手机处理器这种方式是不可行的,工艺差,你通过提升面积来增加性能,功耗和发热需要考虑到,而且国内最高65nm,这个发热量确实有点大了。



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